第一零一九章 又近了一步(3/4)
bsec还没有研发成功6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机，而nikon和gca已经先后研发成功8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机，正在研发8英寸晶圆和250nm制程工艺，对方淘汰的专利技术还是bsec正在研发的，技术实力相差太大，邓院士等人生出一股无力感。
不是重生者指引方向，bsec研制成功全球唯一的磁悬浮式双工作台系统，在全球光刻机行业说话的资格都没有。
bsec如今使用的arf准分子激光器专利技术属于gca，按照双方签订的专利技术转让协定，即使bsec研制成功arfi准分子激光器，专利技术也属于gca，但浸没式光刻系统专利技术属于bsec。
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就像gca研制成功多项磁悬浮式双工作台系统专利技术也属于bsec。
一旦bsec研制成功arfi准分子激光器，即使瓦s纳协定出台，美国就不能在arfi准分子激光器上卡bsec的脖子，除非gca也不用磁悬浮式双工作台系统专利技术和浸没式光刻系统专利技术。
虽然tic持有zeiss smt ag四成的股权，bsec如今也能买到zeiss smt ag生产的1um、800nm、500nm，甚至350nm制程工艺的光刻机光学系统，但随着瓦s纳协定出台，zeiss smt ag到时也不敢供应bsec最先进的光刻机光学系统，未雨绸缪，重生者希望bsec光刻机光学系统研究所在副院长兼所长陈伟长的率领下，尽早的攻克1um制程工艺的光刻机光学系统，到时，bsec就有了立身之本。
国内将是全球最大的电器、电脑和通讯等产品的制造中心和最大的市场，6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机在国内还有很大的市场。
在光刻机三大核心技术中，bsec的光刻机光学系统相对最弱，陈伟长在全球范围内高薪招聘光刻机光学系统方面的高端人才。
自从gca重新登顶光刻机世界之巅，全球多家半导体设备和晶圆公司预定了25台gca3500b，产品