第一五四五章 应该问题不大(2/3)

里好，有些想念老伴和孙子孙女了，即使中国队挺进16强，他们也不打算留在韩国看球了，就在电视机前为中国队加油。

    一行人明天上午乘飞机回京城，下午乘飞机回江城。

    孙健一行人9日回了一趟京城，参加PGCA半导体厂投资15亿美元建设的一条90nm制程工艺半导体生产线的量产仪式。

    国内有了一条世界最先进的半导体生产线，短时间内能满足国智CPU生产的需要。

    6月2日，国智CPU研究所已经宣布研制成功比肩Pentium 4和Athlon XP的GZ-CX4，在国内外引起巨大的轰动，电脑发烧友们纷纷发文，希望早日看到GZ-CX4上市。

    京城半导体研究院院长邓国辉院士已经接到比利时微电子中心（IMEC）负责人阿诺德博士的邀请涵，请他参加7月2日在布鲁塞尔举行的157nm微影技术的研讨会，到时来自全球光源和光学方面的专家学者汇聚一堂，为攻克193nm波长的世界性光学难题出谋划策。

    在请示孙健后，邓国辉院士已经接受邀请。

    公司高管和重要人员出国，不论公干或私事，都要经过孙健的批准，一路有安保人员陪同，这是公司制度。

    孙健预感，台积电的林本坚博士将会在这场研讨会上提出前世着名的“浸润原理”，从此以后，在张忠谋的支持下，台积电开始“浸润原理”商业化的研究。

    前世台积电同ASML合作，在2004年研究成功40nm制程工艺的ASML浸没式光刻机，攻克了65nm制程工艺的瓶颈，一举超过光刻机龙头尼康公司，引领行业发展，但他们不知道，邓国辉院士和所长钱富强研究员率领京城光源研究所的140多名研发人员，经过2年半的潜心研究，在孙健不断“点拨”下，于1999年7月已经研制成功浸没式光刻系统技术，波长变成了134nm，突破了190nm波长的世界性光学难题，并生产了一台40nm制程工艺的浸没式光刻机的原型机，秘而不宣！

    “爸，应该问题不大！”

    足球是圆的，什么事情都可能发生